Guangzhou Zhongwan Energy Co., Ltd
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电 子 化 学 产 品
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类 别
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名 称
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C A S
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用 途
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四 氮 唑 类 |
5-甲基1H-四氮唑
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4076-36-2
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蚀刻液
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5-巯基-1-苯基-四氮唑
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86-93-1
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电镀添加剂、稳定剂、增强感光性及抗腐蚀能力
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1H-四氮唑
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288-94-8
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催化剂
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5-苯基四氮唑
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18039-42-4
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光敏稳定剂、抗氧化剂、腐蚀剂
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1-(2-二甲基氨基乙基)-1H-5-巯基-四氮唑
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61607-68-9
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光刻胶添加剂
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5-氨基四氮唑(无水/一水)
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4418-61-5
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空气发生剂、增冲击、安全气囊产气剂(无水) 光刻胶添加剂(一水) | |
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单
体 |
甲硫咪唑
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60-56-0
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液晶材料单体
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1,12-十二烷基二醇
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5675-51-4
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高级涂料、润滑油、洗涤表面活性剂
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联苯甲醇
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3597-91-9
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快速定量测定烷基锂电的试齐
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N-乙烯基咪唑
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1072-63-5
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环氧树脂中温固化齐
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4-氯-@-甲基苯乙烯
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1712-70-5
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单体
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2-氨基噻唑
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96-50-4
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电镀中间体、单体
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| 苯 乙 烯 系 列 单 体 |
对乙酰氧基苯乙烯 | 2628-16-2 | 合成248nm深紫外正性光刻胶中间体 |
| 4-甲氧基苯乙烯 | 637-69-4 | 光刻胶单体 | |
| 4-乙氧基苯乙烯 | 5459-40-5 | 稳定剂 | |
| 邻氯苯乙烯 | 2039-87-4 | 提高材料耐温性、抗冲击性、折光率和抗拉强度 | |
| 间氯苯乙烯 | 2039-85-2 | 稳定剂 | |
| 对氯苯乙烯 | 1073-67-2 | 感光材料、光引发剂 | |
| 对羟基苯乙烯 | 2628-17-3 | 正型增幅抗蚀剂、酸敏树脂、光阻剂 | |
| 对叔工氧基苯乙烯 | 95418-58-9 | 有机硅树脂光刻胶材料 |
| 丙 烯 酸 酯 类 系 列 单 体 |
1-金刚烷丙烯酸酯 | 121601-93-2 | 在光学性质、耐热性、酸解离性方面优异，可广泛应用于光刻胶的树脂单体 |
| 1-金刚烷基甲基丙烯酸酯 | 16887-36-8 | 在光学性质、耐热性、酸解离性方面优异，可作为交联型树脂、光纤、光导、光盘基板、光刻胶等材料的使用 | |
| 4-联苯甲醇丙烯酸酯 | 54140-48-8 | 电子专用胶、OCA光学胶应用于液晶触摸屏 | |
| 2-氧代四氢呋喃-3-羰基-丙烯酸酯 | 328249-37-2 | 光刻胶单体 | |
| 2-2-氧代四氢呋喃-3-羰基-甲基丙烯酸酯 | 195000-66-9 | 光刻胶单体 | |
| 2-甲基-2-金刚烷醇丙烯酸酯 | 249562-06-9 | 用作半导体用光之刻蚀剂、半导体用密封剂、光学电子部件(光导管、光通信用透镜及光学薄膜等)及它们的粘接剂 | |
| 2-甲基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯 | 177080-67-0 | 193nm光刻胶主体树脂的单体 | |
| 2-乙基-2-金刚烷基丙烯酸酯 | 303186-14-3 | 用于负性胶NR光刻胶 | |
| 2-乙基-2-金刚烷甲基丙烯酸酯 | 209982-56-9 | 193nm光刻胶主体树脂的单体 | |
| 4-羟基苯基甲基丙烯酸酯 | 31480-93-0 | 光刻胶单体 | |
| N-(对羟苯基)甲基丙烯酸酯 | 19243-95-9 | 光刻胶单体、紫外光刻胶 |
| 精 细 化 工 品 |
反式-8,10-十二碳二烯-1-醇 |
33956-49-9 |
苹果蠹娥信息素，引诱剂
有机氯杀虫剂香精、香料 |
| 1,8-辛二醇 |
629-41-4 |
化妆品、增塑剂、特种添加剂的中间体 | |
| 反式-2,4-己二烯-1-醇 |
17102-64-6 |
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| (Z)-8-十二碳烯-1-醇 |
40642-40-8 |
梨小食心虫信息素，昆虫引诱剂 | |
| 羟吡酮 |
68890-66-4 |
去屑止痒剂、杀菌剂、除臭剂 |
| 单 酸 碱 |
H2SO4 硫酸96% |
7664-93-9 |
蓄电池，集成电路硅片清洗 |
| NH4OH 氨水29% |
1336-21-6 |
集成电路减压或等离子CVD | |
| H2O2 双氧水31% |
7722-84-1 |
半导体硅晶片清洗，蚀刻液光刻胶去除剂 | |
| HF 49%氢氟酸 |
7664-39-3 |
半导体去除硅表面氧化物 | |
| H3PO4 85%磷酸 |
7664-38-2 |
处理金属表面免腐蚀 | |
| HNO3 70%硝酸 |
7697-37-2 |
还原金属，去除杂质 | |
| HOAC 100%冰醋酸 |
64-19-7 |
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| KOH 45%氢氧化钾 |
12030-88-5 |
制造碱性蓄电池 | |
| HCl 37%盐酸 |
1185-53-1 |
金属焊接除锈 | |
| TMAH 25%四甲基氢氧化铵 |
75-59-2 |
计算机硅片面用清洗剂光亮剂触刻剂 | |
| CAN 硝酸铈铵 |
7637-03-8 |
分析试剂氧化剂 | |
| 双氧水35% | 7722-84-1 |
半导体硅晶片清洗，蚀刻液光刻胶去除剂 | |
| 双氧水50% |
7722-84-1 |
半导体硅晶片清洗，蚀刻液光刻胶去除剂 |
| 溶 剂 类 |
异丙醇 |
67-63-0 |
作为清洗去油剂，MOS级主要用于分立器件及中、大规模集成电路，BV-Ⅲ级主要用于超大规模集成电路工艺 |
| 丙酮 |
67-64-1 |
有机玻璃 | |
| 甲醇 |
67-56-1 |
清洗去油剂，MOS级主要用于分立器件，中、大规模集成电路，BV-Ⅲ级主要用于超大规模集成电路工艺技术 | |
| N-甲基吡咯烷酮 |
872-50-4 |
电子绝缘材料、锂离子电池集成电路制作，半导体行业精密仪器、线路板的洗净 | |
| 乙二醇 |
107-21-1 |
表面活性剂 | |
| 丙二醇甲醚 |
107-98-2 |
光刻胶，管道前端清洗，黑胶 | |
| 丙二醇甲醚醋酸酯 |
108-65-6 |
光刻胶，黑胶，剥离液 | |
| 二甲基亚砜 |
67-68-5 |
氯化铬，氯化锰等过渡金属卤化物与氯化钾，氯化钠等卤化物在DMSO中有一定溶解度，故可以应用在有机电化学中 | |
| 乙醇胺 |
金属清洗剂 | ||
| 六甲基二硅氮烷 |
999-97-3 |
半导体工业中用作光致刻蚀剂的粘结助剂 | |
| 环戊酮 |
120-92-3 |
合成橡胶的中间体 | |
| 二乙二醇甲醚 |
111-77-3 |
彩胶 | |
| 二乙二醇丁醚 |
112-34-5 |
剥离液 |
| 锂 电 材 料 |
碳酸亚乙烯脂(VC) |
872-36-6 |
锂电池电解液核心成膜助剂，能够在锂电池初次充放电中在负极表面发生电化学反应形成固体电解质界面膜(SEI膜),SEI膜将电极材料与电解液分隔开，允许锂离子在其中进行传输，进入到电极表面进行嵌入或脱嵌。还能组织电解液中溶剂分子的通过，从而有效仿制溶剂分子共嵌入，避免电极材料破坏，从而大幅提升电池循环寿命。 |
| 氟代碳酸乙烯酯(FEC) |
114435-02-8 |
高倍率动力型锂离子电池用电解液定向开发的核心添加剂，增加电池锂离子迁移速率，显著提高电池在高倍率下的充放电性能及电极稳定性。同时在硅碳负极方面具有韧性和自我修复性，提升硅碳负极的寿命。 | |
| 双草酸硼酸锂(LIBOB) |
244761-29-3 |
电解质型添加剂，在锰酸锂及镍钴锰酸锂电池中作为电解质添加剂，抑制电池正极材料在充放电中与电液活性成分的反应，避免金属离子脱出引发的正极材料结构崩塌，提高锂电池的循环性能 | |
| 双氟磺酰亚胺锂(LIFSI) |
171611-11-3 |
新型电解质添加剂，较高导电率、化学稳定性及热稳定性耐氧化性，提高电池寿命，将来可以替代效率低的六氟磷酸锂 | |
| 三(三甲基硅基)磷酸酯(TMSP) |
10497-05-9 |
锂离子电池电解液添加剂材料 | |
| ***双环硫酸酯(TDT) |
201419-80-9 |
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| 甲基三氟乙基碳酸酯(MTFEC) |
156783-95-8 |
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| 4-三氟甲基碳酸乙烯酯(TFPC) |
167951-80-6 |
||
| 甲烷二磺酸亚甲酯(MMDS) |
99591-74-9 |
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| 硫酸乙烯酯(DTD) |
1072-53-3 |
||
| 双氟代碳酸乙烯酯(DFEC) |
311810-76-1 |
||
| 二氟磷酸锂(LIDFP) |
24398-25-1 |
||
| 三(三甲基硅基)硼酸酯(TMSB) |
4325-85-3 |
||
| 三(三甲基硅基)亚磷酸酯(TMSPI) |
1975-31-9 |
||
| 高性能石墨 |
7781-42-5 |
锂电池负极材料 |
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